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宣称2nm技术良率大突破：三星再提超越台积电目标！
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20多年来首次 NVIDIA抢先苹果：下下代GPU首发A16工艺
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示好美国 台积电2nm工艺被传放弃国产半导体设备及材料
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中国FlipFET技术，颠覆芯片
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消息称三星启动新战略，目标 6 个月内将 2 纳米 GAA 工艺良率提升至 60%-70%
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