🤔 **荷兰政府更新出口管制新规，ASML 需要向荷兰政府申请许可才能出货 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 浸润式光刻系统。** 此举旨在加强对先进半导体技术的出口控制，并确保其不会被用于军事目的。该新规适用于 TWINSCAN NXT:2000i 及后续 DUV 浸润式系统，对于 2000i 和先前出口管制规定变化不大。这意味着 ASML 仍然可以向中国大陆出口其较旧的 DUV 光刻机，但需要获得荷兰政府的许可。
🚀 **对于 ASML 而言，此举意味着其需要向荷兰政府申请出口许可，而非美国政府。** 这可能简化了出口流程，因为 ASML 不需要再经过美国政府的审查。然而，荷兰政府可能对出口申请更加严格，因此 ASML 仍然需要谨慎处理。
💡 **对于中国大陆而言，此举意味着其可能难以获得最先进的 DUV 光刻机。** 尽管 ASML 仍然可以出口其较旧的 DUV 光刻机，但这些光刻机可能无法满足中国大陆的需求。这也可能导致中国大陆加速发展其本土半导体产业，以减少对外国技术的依赖。
🌎 **此举对全球半导体产业的影响尚不明确。** 一方面，它可能导致中国大陆半导体产业发展放缓，另一方面，它也可能推动中国大陆加速发展其本土半导体产业。最终结果取决于荷兰政府对出口申请的严格程度以及中国大陆的应对措施。
事件：9.5/9.6日美国、荷兰相继更新了出口管制新规。 #1、1970i和1980i需向荷兰政府申请许可，好于市场担忧？荷兰政府9月6日发布了关于浸润式DUV半导体设备出口的最新许可要求，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCANNXT:1970i和1980i DUV浸 润式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCANNXT:2000i及后续DUV浸润式系统。1）：对于2000i和先前出口管制规定变化不大；2）对于1970i和1980i，早在23年10月，
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