💡 **全国产化硅光PDK平台启用**：国家信息光电子创新中心在光谷成功建设并运营了国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK、TDK及ADK流片服务平台。这标志着中国在硅光芯片领域的技术自主化迈出了重要一步，为本土企业提供了关键的研发与生产支持。

🚀 **MPW服务模式降低门槛**：该平台创新性地采用了硅光MPW（Multi-Project Wafer）服务模式，即将多个芯片设计集成到同一晶圆上进行流片。这种方式能够有效分摊成本，大幅降低了硅光芯片的研发门槛，使得更多企业和研究机构能够参与到硅光技术的开发和应用中。

🌟 **性能达国际先进水平**：基于40nm制程的硅光PDK1.0性能优异，其加工精度、波导损耗、光耦合效率等关键指标均达到了国际先进水平。平台还集成了TDK和ADK，能够提供从集成设计到封装验证的全流程支持，满足科研成果转化和产品快速迭代的需求。

📈 **赋能前沿产业发展**：随着技术成熟和AI需求的爆发，硅光芯片在人工智能、大数据等前沿产业领域展现出巨大的应用潜力。LightCounting预测，到2030年，硅光芯片在光通信芯片市场的占比将增至60%，该平台的投用将有力推动相关产业的快速发展。

快科技11月11日消息，据“中国光谷”微信公众号介绍，日前，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台正式在光谷投用。

该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）建设运营，标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。

据介绍，传统芯片靠电子传输数据，好比汽车运货，硅光芯片则让光子穿梭于光纤，变身“光速高铁”。

该平台创新构建硅光MPW服务模式，通过将多个芯片设计集成于同一晶圆流片，实现成本分摊，大幅降低研发门槛。

国家信息光电子创新中心硅光芯片

平台基于40nm制程的硅光PDK1.0性能总体达到商用要求，其加工精度、波导损耗、光耦合效率等指标达国际先进水平。

据了解，除PDK外，平台还集成了TDK和ADK，可提供芯片从集成设计到封装验证的全流程支撑，可满足科研成果转化和产品研制中的快速迭代需求。

国家信息光电子创新中心硅光芯片加工场景

近年随着技术成熟及AI需求爆发，硅光芯片在人工智能、大数据等前沿产业领域迎来大规模应用。

咨询机构LightCounting预计，到2030年硅光芯片在光通信芯片市场占比将增至60%。