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高通联发科携手台积电,争夺先进芯片制造工艺领先地位
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高通骁龙8 Elite Gen 6和联发科天玑9600处理器计划采用台积电的N2P工艺节点,旨在制造工艺上超越竞争对手。台积电的2nm制程包含N2和N2P两个版本,此前苹果A20系列芯片据传将采用N2。高通和联发科则选择“弯道超车”,直接跳过N2,转而使用性能更优的N2P节点。此举意在通过先进制造工艺弥补在核心设计上的差距,因为苹果在自主研发的CPU和GPU方面长期保持领先。高通近期才开始自主设计核心,而联发科则主要依赖ARM公版设计。

🚀 芯片巨头的高端布局:高通与联发科计划在其下一代旗舰处理器——骁龙8 Elite Gen 6和天玑9600中,采用台积电更为先进的N2P制造工艺节点。这一策略旨在通过工艺上的领先,在性能上与主要竞争对手苹果展开直接较量。

💡 “弯道超车”的工艺选择:与此前传闻苹果A20系列将采用台积电2nm节点中的N2版本不同,高通和联发科选择直接跳过N2,而是在性能更优越的N2P节点上发布其新一代芯片。这体现了它们在高端制造工艺上的积极追赶和策略调整。

⚖️ 弥补设计短板的策略:高通和联发科之所以倾向于采用更先进的N2P工艺,一个重要原因是希望借此获得制造工艺上的优势,以弥补在自主核心设计上的相对劣势。苹果凭借长期积累的自主研发经验,在芯片性能和能效比方面一直处于领先地位。

🌱 自主设计核心的演进:与苹果在CPU和GPU自主研发上的深厚积累相比,高通直到近期才开始采用完全自主设计的核心,而联发科则主要依赖ARM提供的公版核心设计。因此,先进的制造工艺成为它们提升产品竞争力的重要途径。

高通的骁龙8 Elite Gen 6和联发科的天玑9600处理器,计划直接采用台积电更先进的N2P工艺节点,力求在制造工艺上超越主要竞争对手苹果。台积电下一代2nm节点制程拥有N2和其后续优化的N2P两个版本,此前有报道称,苹果的A20和A20 Pro芯片将采用首个版本N2工艺。

而最新消息指出,高通和联发科采取“弯道超车”策略,直接跳过N2,选择在性能更优的N2P节点上发布其下一代旗舰芯片。

高通骁龙8 Elite Gen6已多次传闻将采用N2P工艺,并支持LPDDR6内存和UFS 5.0存储,而联发科则是首次被曝出加入这一阵营。

高通和联发科之所以倾向于采用更先进的N2P工艺,是因为它们希望在制造工艺上获得领先优势,以弥补在核心设计上的差距。

苹果凭借多年在CPU和GPU核心方面的自主研发经验,其芯片性能和能效比一直领先于竞争对手,例如A19 Pro的能效核在功耗不变的情况下,性能提升了29%。

相比之下,高通直到最近才开始搭载完全自主设计的核心,而联发科则主要依赖ARM的公版核心设计。

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