EUV工艺是5nm节点之后的核心技术，而荷兰ASML是唯一的光刻机供应商。日本在EUV光刻胶领域拥有显著优势，主要化工巨头正积极扩产以应对2nm及以下先进工艺的需求。东京应化工业将在韩国平泽投资建设光刻胶工厂，并计划在韩国再投资建设高纯度化学厂，以满足三星、SK海力士等客户需求。JSR公司也将于明年底在韩国量产MOR型光刻胶，Adeka阿德卡也将在日本扩建MOR型光刻胶工厂。尽管日本本土尚无2nm工艺芯片厂，但其在半导体材料领域占据全球主导地位，正通过积极的海外布局，为2nm及以下先进工艺的需求做好准备。

🌟 日本半导体材料企业正在积极布局EUV光刻胶领域，以满足未来2nm及以下先进工艺的需求。以东京应化工业为例，其在韩国平泽的投资将显著提升其光刻胶产能，并计划建设高纯度化学厂，以就近服务韩国主要的半导体制造商如三星和SK海力士，体现了其对全球半导体供应链的深度参与和对先进工艺的战略前瞻。

💡 MOR型光刻胶是专为EUV光刻工艺研发的关键材料，以金属氧化物为基础，代表了半导体材料领域的前沿技术。JSR和Adeka等日本巨头纷纷在韩国和日本扩产MOR型光刻胶，表明了其在该技术领域的领先地位和对市场需求的精准把握，同时也预示着未来先进芯片制造将更加依赖这些高性能材料。

📈 日本企业在全球半导体材料市场，尤其是在光刻胶领域，占据着超过91%的份额，显示出其强大的行业影响力。尽管日本本土目前没有2nm工艺的芯片制造厂，但通过积极的海外投资和产能扩张，它们正通过支持全球领先的芯片制造商来巩固其在先进工艺发展中的核心地位，显示出其长远的战略眼光和全球市场策略。

EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺，EUV光刻机只有荷兰ASML能产，但日本在EUV光刻胶领域很有优势，针对2nm及以下节点，日本三大化工巨头都在积极扩产。

日本半导体材料厂东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，将在韩国平泽投资200亿日元，约合1.3亿美元建设光刻胶工厂，预计2030年正式投产。

平泽是三星、SK海力士等韩国半导体公司的重要生产基地，该工厂投产后应化工业在韩国的产能将翻三四倍，更好地满足客户需求。

此外，应化工业还会在韩国再投资120亿日元建设高纯度化学厂，同样会应用先进半导体工艺，此举被外界视为日本厂商积极扩产，提前部署2nm及更先进工艺的需求。

同样是EUV光刻胶巨头的JSR公司也会在韩国投资建设MOR型光刻胶工厂，而且明年底就会量产。

另一家百年老店Adeka阿德卡也将在日本投资扩产，花费32亿日元在日本建设MOR型光刻胶工厂，预计2028年4月份量产。

MOR型光刻胶以金属氧化物为基础，主要是为EUV光刻工艺而研发的，国内也在积极建设MOR光刻胶研发及生产线。

不过在半导体材料，尤其是光刻胶方面，日本公司长期占据世界91%以上的份额，虽然本土暂时没有2nm工艺芯片厂，但他们积极布局海外，对2nm及以下的先进工艺一样志在必得。