国林科技-----新凯莱ALD/CVD工艺清洗环节核心设备供应商+全面替代美国 MKS海外巨头 1、国林科技：新凯来+并购重组+光刻机；拟现金收购凯涟捷91.07%股权 预计构成重大资产重组;公司是半导体级臭氧设备独家供应商，为新凯莱ALD/CVD工艺清洗环节提供设备，其臭氧发生器浓度控制精度达±1ppm，适配5nm制程晶圆清洗，良率提升至98.5%。公司半导体级清洗设备适配光刻胶残留去除需求，技术要盖28nm以下制程。清洗设备：公司有望成为半导体清洗设备国产替代稀缺标的。公司用于半导体行业的高