掩膜版——光刻环节的底片 掩膜版简介 掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版，是微电子制造领域中光刻工艺中所使用 的图形母版。掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行 业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产，是承载图形设计和工艺技术等知识产 权信息的载体。 作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺 制造的关键，掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。 掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”，曝光光源照 射在掩膜版上面，通过曝光等工艺后，下游制程材料可以大