e公司-快讯 09月27日
新型沸石咪唑酯骨架薄膜制备技术与光刻应用
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华东理工大学与约翰霍普金斯大学合作,开发出一种创新的间歇性旋涂化学液相沉积方法,用于制备非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜。该技术实现了薄膜沉积速率和厚度的精确控制,并成功通过电子束光刻和超越极紫外光刻进行了验证。aZIF薄膜在先进光刻胶领域具有重要应用前景,此次研究突破了大面积、高精度可控制备aZIF薄膜的关键技术难题,为相关光刻工艺的进步奠定了基础。A股市场已有近20家公司布局半导体光刻胶业务,涵盖产业链上下游及子公司参股等多种形式。

🔬 **创新薄膜制备技术:** 国际合作团队开发了间歇性旋涂化学液相沉积方法,能够可控地制备非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜。这项新技术解决了传统方法在薄膜沉积速率和厚度控制上的难题,为高性能材料的制备提供了新的途径。

💡 **光刻技术验证与应用:** 制备出的aZIF薄膜已成功通过电子束光刻和超越极紫外光刻的验证,表明其在先进光刻工艺中具有重要的应用潜力。aZIF薄膜作为先进光刻胶的性能,对于推动半导体制造向更高精度和更小尺寸发展至关重要。

📈 **市场布局与发展前景:** A股市场已有包括上海新阳、南大光电、聚光科技在内的近20家公司布局半导体光刻胶业务。这些公司通过不同形式参与,显示出半导体光刻胶领域的巨大发展潜力和市场前景,也为新材料的应用提供了广阔的商业化空间。

人民财讯9月27日电,据中国化工报,华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队,提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜的方法,实现了薄膜沉积速率和厚度的可控,并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究近日发表于《自然—化学工程》。据介绍,近年来,aZIF薄膜被用作先进光刻胶。实现aZIF薄膜的大面积、高精度可控制备,对相关领域的先进光刻工艺具有重要意义。在前期基于超稀释前驱体溶液赋能化学液相沉积法制备aZIF薄膜策略的基础上,研究团队提出了制备aZIF薄膜的新方法。根据公司经营业务以及自身在投资者关系互动平台的披露,A股市场布局半导体光刻胶业务的公司有上海新阳、南大光电、聚光科技等20家,这些公司中既有属于半导体产业链上下游公司,也有公司的子公司或参股公司参与半导体光刻胶业务。

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