e公司-快讯 09月21日
刻蚀设备需求提升,半导体设备国产化趋势明显
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中信证券预计,光刻技术、三维存储和晶体管结构升级将推动刻蚀设备需求上升,短期下游扩产有望推动行业增长,建议关注国内刻蚀设备厂商和相关企业。

人民财讯9月21日电,中信证券预计,至少以下三方面的技术趋势将推动刻蚀设备的用量和重要性提升:1.光刻多重图案化路线的采用;2.三维堆叠存储和近存计算需求;3.底层晶体管结构升级。长期看,半导体设备国产化方向明确,短期来看,下游扩产有望驱动行业进入新一轮增长期。建议关注国内刻蚀设备厂商以及相关配套设备、零部件企业机会。

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