韭研公社 09月21日
碳化硅散热技术引领芯片创新
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华为和英伟达在芯片散热领域采用碳化硅技术,预计2027年大规模应用,东吴证券预测市场增量空间巨大。


一、碳化硅 化硅成为芯片散热新路线。日前,华为公布两项专利,均涉及碳化硅散热。 无独有偶,此前有媒体爆料称,英伟达在其新一代Rubin处理器设计中,将CoWoS先进封装的中间基板材料从硅更换为碳化硅,以提升散热性能,并预计2027年开始大规模采用。碳化硅应用领域从电力电子扩展到封装散热,打开了市场增量空间。 东吴证券测算,以当前英伟达H1003倍光罩的2500mm 中介层为例,假设12英寸碳化硅晶圆可生产21个3倍光罩尺寸的中介层,2024年出货的160万张H100若未来替换成碳化硅中介层,则对

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