我国光刻机的研发工作采用了类似于“Out House”的协同模式。其中，上海微电子负责整机设计与集成，而光源系统、物镜系统、曝光光学系统、双工作台以及浸没系统等核心部件的研发，则分别由科益虹源、国望光学、国科精密、华卓精科和启尔机电这五家企业承担。值得一提的是，这五家企业均与中国顶尖高校有着紧密的合作关系，共同构成了中国顶尖的半导体研发团队。 --------------------------------------------------- -------------------------