全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段，其精度达到国际主流设备水平，标志着中国在量子芯片研发领域拥有了自主可控的关键技术。这一突破对于推动国内半导体产业链的发展具有重要意义。据行业数据显示，全球光刻设备市场规模持续增长，国产光刻机产业链企业正取得显著进展，为相关投资机会提供了广阔前景。博众精工和路维光电等上市公司在电子束光刻技术及相关部件研发方面展现出积极的成果。

🌟 国产电子束光刻机“羲之”成功进入应用测试，标志着中国在量子芯片研发领域实现了关键技术的自主可控，其精度已比肩国际先进设备，为量子芯片的“中国制造”奠定了基础。

📈 全球光刻设备市场规模持续扩大，预计到2029年将达到378.1亿美元。在国内半导体产业链的协同努力下，国产光刻机相关企业正取得显著进展，预示着巨大的投资潜力。

💡 博众精工已成功研发出用于电子束光刻机等设备的关键部件，如热场发射电子源和高稳定度电源，进一步提升了国产光刻机的核心竞争力。

🔬 路维光电在半导体掩膜版制造方面，积极研究电子束光刻和干法制程技术，尤其在90nm和40nm制程节点上，为电子束光刻机的应用提供了技术支持和突破。

近日，作为基地首批签约孵化项目之一，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。

爱建证券指出，SEMI数据显示，2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元，Mordor Intelligence预计全球光刻机市场规模到2029年将达378.1亿美元，2024-2034复合增长率为5.0%。在国产半导体产业链的通力合作下，越来越多的国产光刻机产业链企业取得显著进展，建议关注相关的投资机会。

据财联社主题库显示，相关上市公司中：

博众精工表示，2024年下半年博众仪器正式发布热场发射电子源、高稳定度直流高压电源和高稳定度恒流源，这些产品不仅是透射电子显微镜的关键部件，还可以用于扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机等领域设备。

路维光电90nm、40nm在光刻机方面都需要使用电子束光刻机搭配干法制程技术，公司已经针对半导体掩膜版在电子束光刻、干法制程等技术方面开展了相应研究，不断进行技术突破。