近日，我国首台自主研发的商业化电子束光刻机“羲之”在杭州正式发布并进入应用测试阶段。该设备由浙江大学余杭量子研究院研制，是一款100kV的新一代电子束光刻机，能够通过高能电子束在硅基上实现0.6纳米的精度和8纳米的线宽，精度媲美国际先进水平。其无需掩模版、可多次修改设计的特性，在芯片原型设计、快速迭代和小批量试制方面展现出显著优势，能大幅提升研发效率。这款“羲之”光刻机的问世，打破了长期以来国内科研机构和企业因国际出口管制而无法采购先进电子束光刻机的局面，为国内芯片产业发展注入了新动力。

🌟 “羲之”电子束光刻机是中国首台自主研发的商业化设备，由浙江大学余杭量子研究院研制，标志着我国在高端芯片制造设备领域取得重要进展。

💡 该设备的核心技术在于其100kV高能电子束，能够实现0.6纳米的精度和8纳米的线宽，在精确度上已达到国际主流水平，为制造更精密的芯片提供了可能。

🚀 与传统光刻机相比，“羲之”无需掩模版，并支持设计多次修改，这使得它在芯片研发初期的原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势，能够显著提高研发效率和灵活性。

🌍 “羲之”的成功研发并应用，打破了国际出口管制对国内先进电子束光刻机采购的限制，为国内顶尖科研机构和企业提供了关键设备支持，有力推动了中国芯片产业的自主化进程。

近日全国首台国产商业化电子束光刻机在杭州正式亮相，这台设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，型号为“羲之”，已完成研发并进入应用测试阶段。“羲之”是一款新一代100kV电子束光刻机，外观酷似大型钢柜，专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节。

可通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度可达0.6纳米、线宽仅8纳米，精度比肩国际主流设备，并且无需掩模版，可多次修改设计。

据介绍，与传统光刻机相比，电子束光刻机在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势。

团队负责人表示：“芯片研发初期会设计很多版型、图案，常常需要一条线一条线进行修改，电子束光刻机精度高、‘书写’便捷，极大提升了芯片研发初期反复调试的效率。”

此前先进电子束光刻机类设备受国际出口管制，国内顶尖科研机构和企业长期无法采购，而“羲之”的落地彻底打破了这一困局，目前已与国内企业及多家科研机构展开接洽。