一. 光刻机概览 光刻机是芯片光刻环节核心设备，将电路图案转化为硅片物理结构，直接决定芯片性能。 （1）工作原理：光束将掩模版图案按比例缩小，随后投影到涂有光刻胶的硅片上，再经显影、刻蚀等工艺形成芯片电路。 （2）核心系统：光源系统、光学系统（照明系统+投影物镜系统）、双工件台系统、环境控制系统、传输与测量系统等。 （3）光束路径：光源系统→照明系统→掩模版→投影物镜系统→晶圆表面光刻胶。 （4）分类：DUV（28nm-7nm制程，量产主流）、EUV（7nm及以下制程，仅ASML量产）。 （5）