台积电在 2nm 制程节点取得突破，引入 GAAFET 晶体管技术及 NanoFlex 技术。N2 工艺相较 N3E 工艺性能提升、功耗降低、晶体管密度增加，但成本也攀升。台积电加大对 2nm 制程投资，在多地布局晶圆厂，预计 2025 年下半年量产，苹果或为首个客户。

🎯台积电在 2nm 制程节点上取得重大突破，首次引入 Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管技术，还结合了 NanoFlex 技术，为芯片设计人员提供前所未有的标准元件灵活性。

💪相较于当前的 N3E 工艺，N2 工艺在相同功率下性能提升 10%至 15%，或在相同频率下功耗降低 25%至 30%，晶体管密度提升 15%，是半导体技术领域的又一次飞跃。

💰然而，技术升级的同时成本相应攀升，台积电每片 300mm 的 2nm 晶圆价格可能突破 3 万美元大关，高于早先预估，且高于当前 3nm、4/5nm 晶圆价格。

📈面对市场需求，台积电加大对 2nm 制程节点的投资力度，2nm 晶圆厂在中国台湾多地布局，以确保产能满足市场需求。新工艺引入更多 EUV 光刻步骤及可能的双重曝光技术，使生产成本高于 3nm 制程节点。

⏳台积电已规划 N2 工艺于 2025 年下半年正式进入批量生产阶段，预计客户最快可在 2026 年前收到首批采用 N2 工艺制造的芯片，苹果可能是首个尝鲜客户。

快科技10月5日消息，据媒体报道，台积电（TSMC）在2nm制程节点上取得了重大突破，将首次引入Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管技术。此外，N2工艺还结合了NanoFlex技术，为芯片设计人员提供了前所未有的标准元件灵活性。

相较于当前的N3E工艺，N2工艺预计将在相同功率下实现10%至15%的性能提升，或在相同频率下将功耗降低25%至30%。更令人瞩目的是，晶体管密度将提升15%，这标志着台积电在半导体技术领域的又一次飞跃。

然而，伴随着技术的升级，成本也相应攀升。据预测，台积电每片300mm的2nm晶圆价格可能突破3万美元大关，高于早先预估的2.5万美元。相比之下，当前3nm晶圆的价格区间约为1.85万至2万美元，而4/5nm晶圆则徘徊在1.5到1.6万美元之间。显然，2nm晶圆的价格将出现显著增长。

面对市场对2nm工艺技术的强烈需求，台积电正不断加大对该制程节点的投资力度。2nm晶圆厂将在中国台湾的北部（新竹宝山）、中部（台中中科）和南部（高雄楠梓）三地布局，以确保产能满足市场需求。

新工艺的引入意味着更多的EUV光刻步骤，甚至可能采用双重曝光技术，这无疑将进一步提升生产成本，使其高于3nm制程节点。

台积电已规划N2工艺于2025年下半年正式进入批量生产阶段，预计客户最快可在2026年前收到首批采用N2工艺制造的芯片。而首个尝鲜这一先进工艺的客户，很可能是科技巨头苹果。